Huawei решил обойти санкции и создал собственную установку для производства процессоров

Китайская Huawei запатентовала фотолитографическую установку, которая позволит обеспечить создание процессоров с проектными нормами менее 10 нанометров (нм), сообщила "Российская газета".

Фотолитография в микроэлектронике формирует то или иное изображение на кремниевой подложке, после чего появляется необходимая типология микросхемы. Размер получаемых элементов рисунка зависит от длины волны излучения. До настоящего времени монополистом в этой сфере была ASML из Нидерландов, введшая под давлением США санкции против Huawei. Вероятно, американское правительство планировало таким образом усложнить развитие микроэлектроники в Китае.

Однако несмотря на это китайская компания имеет большие планы. В частности, увеличить когерентность излучения, которое повысит разрешение и уменьшит проектные нормы установки. Вместе с тем эксперты, занимающиеся EUV-фотолитографией, отметили, что сомневаются в успешной реализации задумки и в компетенциях специалистов Huawei.